【特徴】
・光化学反応やAFM観察用などに使用されています。
【仕様】
・寸法:10×10×0.5
・方位:(100)
・研磨:片面鏡面
・入数:1箱(10枚入)
※単結晶基板は他にも以下を取り扱っております。
※ご注文、お見積りについては下記内容をご確認の上、お問い合わせフォームよりご依頼ください。
・①結晶名(化学式)
・②サイズ(縦横、または直径(mm))
・③厚み(mm)
・④方位 例:(100)、(110)、(111)
※金属単結晶の場合は、右記方位精度の選択をお願いします。(±0.1°、±0.4°、±1°、±2°)
・⑤表面仕上(片面鏡面、両面鏡面、粗面(未研磨)、切断)
・⑥数量
・⑦その他(面内方位の有無、穴あけ加工など)
アズワン番号:62-2642-80
・光化学反応やAFM観察用などに使用されています。
【仕様】
・寸法:10×10×0.5
・方位:(100)
・研磨:片面鏡面
・入数:1箱(10枚入)
※単結晶基板は他にも以下を取り扱っております。
酸化物単結晶 | Anatase(アナターゼ) CoO(酸化コバルト) Cr2O3(酸化クロム) Cu2O(酸化銅) DyScO3(スカンジウム酸ジスプロスイム) Fe2O3(三酸化二鉄) Fe3O4(四酸化三鉄) GdScO3(スカンジウム酸ガドリニウム) KTaO3(タンタル酸カリウム) LaSrAlO4(ランタンストロンチウムアルミネート) LaSrGaO4(ランタンストロンチウムガレート) MnO(酸化マンガン) NdScO3(スカンジウム酸ネオジウム) NiO(酸化ニッケル) SGGG(置換型ガドリウム・ガリウム・ガーネット) SnO2(酸化スズ) YAG(イットリウム・アルミニウム・ガーネット) YAlO3(イットリウム・アルミネート) など |
半導体単結晶 | Ge(ゲルマニウム) GaP(ガリウムリン) GaN(ガリウムナイトライド) InP(インジウムリン) SiC(炭化珪素) など |
フッ化物単結晶 | LiF(フッ化リチウム) LaF3(フッ化ランタン) MgF2(フッ化マグネシウム) SrF2(フッ化ストロンチウム) KBr(臭化カリウム) KCl(塩化カリウム) NaCl(塩化ナトリウム) など |
金属単結晶 | Ag(銀) Al(アルミニウム) Au(金) Bi(ビスマス) Cd(カドミウム) Co(コバルト) Cr(クロム) Cu(銅) Dy(ジスプロシウム) Er(エルビウム) Fe(鉄) Gd(ガドリニウム) Hf(ハフニウム) Ho(ホロニウム) In(インジウム) Ir(イリジウム) Li(リチウム) Mg(マグネシウム) Mo(モリブデン) Nb(ニオブ) Ni(ニッケル) NiAl(ニッケルアルミニウム) Pb(鉛) Pd(パラジウム) Pt(白金) Re(レニウム) Rh(ロジウム) Ru(ルテニウム) Sb(アンチモン) Sn(スズ) Ta(タンタル) Tb(テルビウム) Te(テルル) Ti(チタン) V(バナジウム) W(タングステン) Y(イットリウム) Zn(亜鉛) Zr(ジルコニウム) 合金結晶など |
その他 | ダイヤモンドなど |
・①結晶名(化学式)
・②サイズ(縦横、または直径(mm))
・③厚み(mm)
・④方位 例:(100)、(110)、(111)
※金属単結晶の場合は、右記方位精度の選択をお願いします。(±0.1°、±0.4°、±1°、±2°)
・⑤表面仕上(片面鏡面、両面鏡面、粗面(未研磨)、切断)
・⑥数量
・⑦その他(面内方位の有無、穴あけ加工など)
アズワン番号:62-2642-80